昶青企業社

精密化學 × 半導體未來
打造最純淨的晶圓世界

我們專注於提供高選擇比、低損傷的濕式清洗與剝離解決方案,協助客戶在微奈米製程中邁向更高的良率。

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關於我們

昶青企業社 | 創新 × 精密 × 信賴

專業化學清洗解決方案

昶青企業社源自台灣,早期以傳統機械加工起家,近年積極轉型,專注於半導體及面板產業所需的濕式化學清洗材料。我們提供客製化藥劑設計、小批量實驗試配與專業技術顧問,成為小型與中型製造業的堅強後盾。

我們堅信,技術不是標準答案,而是為每一個客戶量身打造的最佳解方。

精密化學技術

專業的化學清洗解決方案

服務項目

為您提供全方位的化學清洗解決方案

濕式化學清洗劑

  • 乾式蝕刻後殘留物去除液
  • CMP 後高選擇比清洗劑
  • 晶圓封裝去光阻劑
  • 再生晶圓用清洗劑

客製化配方設計

  • 依據客戶材質與膜層需求,設計最佳剝離或清洗配方
  • 小量試量生產
  • 配方優化與改良
  • 品質穩定性驗證

應用技術支援

  • 現場使用導入
  • 教育訓練與工藝參數建議
  • 技術諮詢服務
  • 持續技術支援

產品介紹

半導體清洗劑

專為晶圓製程與精密電子零件設計,能高效去除微粒、金屬污染與有機殘留,保持表面平整與潔淨,確保後續製程穩定。

剝離劑 / 去光阻劑

適用於乾式與濕式製程,可快速溶解並去除光阻層或殘膠,且不損傷基材,廣泛應用於晶圓、面板與精密電子產業。

蝕刻液

針對矽晶圓、氧化層及特定金屬提供高選擇比蝕刻,能在保持結構完整的同時去除指定材料,應用於微結構製作與表面調整。

晶圓再生洗劑

專為廢舊晶圓再生製程開發,能徹底去除殘留薄膜與污染物,恢復晶圓表面品質,降低原材料浪費,支持綠色製造。

為什麼選擇昶青?

我們的技術優勢與專業承諾

高選擇比技術

不傷晶背矽的去膜解決方案,提升再生良率與製程穩定性。

最佳平衡配方

在效果與材料保護間取得最適平衡,確保製程品質。

專業服務承諾

為每位客戶提供具專業性與應用價值的實用解決方案。

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新竹縣湖口鄉明新街70號

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