昶青企業社

精密化學 × 半導體未來
打造最純淨的晶圓世界

我們專注於提供高選擇比、低損傷的濕式清洗與剝離解決方案,協助客戶在微奈米製程中邁向更高的良率。

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關於我們

昶青企業社 | 創新 × 精密 × 信賴

專業化學清洗解決方案

昶青企業社源自台灣,早期以傳統機械加工起家,近年積極轉型,專注於半導體及面板產業所需的濕式化學清洗材料。我們提供客製化藥劑設計、小批量實驗試配與專業技術顧問,成為小型與中型製造業的堅強後盾。

我們堅信,技術不是標準答案,而是為每一個客戶量身打造的最佳解方。

精密化學技術

專業的化學清洗解決方案

服務項目

為您提供全方位的化學清洗解決方案

濕式化學清洗劑

  • 乾式蝕刻後殘留物去除液
  • CMP 後高選擇比清洗劑
  • 晶圓封裝去光阻劑
  • 再生晶圓用清洗劑

客製化配方設計

  • 依據客戶材質與膜層需求,設計最佳剝離或清洗配方
  • 小量試量生產
  • 配方優化與改良
  • 品質穩定性驗證

應用技術支援

  • 現場使用導入
  • 教育訓練與工藝參數建議
  • 技術諮詢服務
  • 持續技術支援

Product Introduction

Semiconductor Cleaner

Specifically designed for wafer processing and precision electronic parts, it can efficiently remove particulates, metal contamination, and organic residues, keeping surfaces smooth and clean and ensuring subsequent process stability.

Stripping Agent / Photoresist Remover

Suitable for both dry and wet processes, it quickly dissolves and removes photoresist layers or residues without damaging the substrate, widely used in wafer, panel, and precision electronics industries.

Etching Solution

Provides high-selectivity etching for silicon wafers, oxide layers, and certain metals, removing targeted materials while preserving structural integrity; used for microstructure fabrication and surface tuning.

Wafer Reclaim Cleaner

Developed for reclaiming used wafers, it thoroughly removes residual films and contaminants, restoring wafer surface quality, reducing material waste, and supporting green manufacturing.

為什麼選擇昶青?

我們的技術優勢與專業承諾

高選擇比技術

不傷晶背矽的去膜解決方案,提升再生良率與製程穩定性。

最佳平衡配方

在效果與材料保護間取得最適平衡,確保製程品質。

專業服務承諾

為每位客戶提供具專業性與應用價值的實用解決方案。

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No. 70, Mingxin St., Hukou Township, Hsinchu County, Taiwan

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